纳米硅量子点/氮化硅三明治结构的电致发光

• 作者: 严敏逸 徐伟 徐骏 许杰 陈坤基 黄信凡
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 光电子学 硅量子点 激光晶化 电致发光
• 年，卷（期）: 2012,（7）
• 所属期刊栏目: 060 材料
• 页码范围: 164-168
• 页数: 5页
• 分类号: O472+.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201239.0706003

摘要

采用等离子体化学气相沉积技术制备了两种不同非晶硅层厚度的氮化硅/氢化非晶硅/氮化硅三明治结构,研究了不同能量激光退火对薄膜晶化的影响.通过拉曼分析,发现在激光能量为320mJ时,样品开始晶化,随着能量的提高晶化程度增加,在340mJ时达到最大.根据拉曼晶化峰的偏移,计算得出硅量子点尺寸为2.8nm和4.7nm,表明三明治结构对形成的硅量子点的尺寸具有限制作用.设计并制备了基于该结构的电致发光器件,在偏压大于10V时,在室温下可观测到电致发光.发现不同激光能量下晶化后的样品的电致发光强度不同,发光峰位在680nm和720nm附近.分析表明电致发光来源可以归结为电子空穴对在硅量子点中的辐射复合发光.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄信凡		11	88	4.0	9.0
2	徐骏		22	38	3.0	4.0
3	陈坤基		31	53	5.0	6.0
4	徐伟		64	185	7.0	9.0
5	严敏逸		1	0	0.0	0.0
6	许杰		1	0	0.0	0.0