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多台阶器件结构深层表面光刻工艺优化
多台阶器件结构深层表面光刻工艺优化
作者:
孙丽媛
张露
沈光地
田亮
邹德恕
马莉
高志远
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
多台阶
光刻工艺
摘要:
针对多台阶器件结构深层表面光刻工艺中存在的问题,对不同台阶高度分别测量了台阶表面及台阶底部沉积的光刻胶厚度,并对台阶高度与光刻胶厚度的关系进行数值描述与分析.基于Beer定律对薄光刻胶光吸收系数的描述,分析了通过实验得到的不同曝光时间下光刻胶的光强透过率曲线,解释了随着曝光时间的增加光刻胶光强透过率发生变化的原因,同时认为光刻胶光吸收系数与光刻胶厚度密切相关.在此基础上,确定了台阶底部堆积光刻胶完全曝光所需时间.优化平面光刻工艺,在不同台阶高度的深台阶表面及底部同时制作出窄线条的高质量图形.
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文献信息
篇名
多台阶器件结构深层表面光刻工艺优化
来源期刊
物理学报
学科
工学
关键词
多台阶
光刻工艺
年,卷(期)
2012,(20)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
376-383
页数
分类号
TN305.7
字数
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
邹德恕
北京工业大学光电子技术省部共建教育部重点实验室
58
270
10.0
12.0
2
孙丽媛
北京工业大学光电子技术省部共建教育部重点实验室
3
16
2.0
3.0
3
高志远
北京工业大学光电子技术省部共建教育部重点实验室
7
28
4.0
5.0
4
张露
北京工业大学光电子技术省部共建教育部重点实验室
2
16
2.0
2.0
5
马莉
北京工业大学光电子技术省部共建教育部重点实验室
4
17
2.0
4.0
6
田亮
北京工业大学光电子技术省部共建教育部重点实验室
4
35
3.0
4.0
传播情况
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节点文献
多台阶
光刻工艺
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
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