浅谈单腔PECVD设备

• 作者: 姜崴 张健 赵文平 郑旭东 陈英男
• 来源期刊: 科技信息
• 关键词: PECVD 单腔 真空 薄膜
• 年，卷（期）: 2012,（34）
• 页码范围: 684
• 字数: 4466字
• 语种: 中文

摘要

PECVD设备是半导体薄膜加工的重要设备之一,设备的优良与稳定性直接决定成膜的优劣.本文以沈阳拓荆科技有限公司自主研发的SC-300单腔产品为例介绍PECVD设备基本组成结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈英男		3	1	1.0	1.0
2	郑旭东		2	0	0.0	0.0
3	张健		1	0	0.0	0.0
4	赵文平		1	0	0.0	0.0
5	姜崴		3	13	1.0	3.0