超临界CO2清洗在半导体工业中的应用

• 作者: 康冬妮 李俊岭
• 来源期刊: 国防制造技术
• 关键词: 超临界CO2 清洗 半导体
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 34-37
• 页数: 4页
• 字数: 2354字
• 语种: 中文

摘要

本文回顾了常规湿法清洗的局限性,在此基础上介绍了超临界CO2清洗及其优越性.论述了超临界CO2清洗在半导体行业的具体应用,并对比使用超临界CO2清洗前后的情况.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李俊岭	中国电子科技集团公司第二研究所	8	21	3.0	4.0
2	康冬妮	中国电子科技集团公司第二研究所	8	10	2.0	2.0