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多铁性HoMnO3外延薄膜的微结构研究
多铁性HoMnO3外延薄膜的微结构研究
作者:
于奕
杨军杰
王嘉维
章晓中
赵永刚
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
多铁性
六方锰氧化物
透射电子显微术
异相边界
摘要:
多铁性六方锰氧化物RMnO3(R-Y,Ho-Lu)具有丰富的结构与物理内涵,是近年来凝聚态物理与材料科学领域的研究热点.本文利用透射电子显微术对钇稳定氧化锆(yttria-stabilized zirconia,YSZ)基底上外延生长的HoMnO3薄膜的微结构进行表征.研究结果表明,c轴取向的HoMnO3薄膜可以在YSZ(111)基底上实现良好的外延.薄膜中的主要缺陷为异相边界(out-of-phase boundary,OPB).OPB的产生归因于表面台阶机制和形核层机制.OPB缺陷处会出现化学计量比失衡,实验上观察到富Ho和富Mn两种类型的OPB,这些化学计量比失衡的缺陷会对薄膜的电学性能产生影响.本文研究结果有助于深入理解六方锰氧化物薄膜结构与物理性能之间的关系.
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文献信息
篇名
多铁性HoMnO3外延薄膜的微结构研究
来源期刊
电子显微学报
学科
工学
关键词
多铁性
六方锰氧化物
透射电子显微术
异相边界
年,卷(期)
2013,(3)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
187-191
页数
5页
分类号
TB34|O766+.1|O77|TG115.21+5.3
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.1000-6281.2013.03.001
五维指标
作者信息
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姓名
单位
发文数
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于奕
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章晓中
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3
杨军杰
低维量子物理国家重点实验室清华大学物理系
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王嘉维
低维量子物理国家重点实验室清华大学物理系
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赵永刚
低维量子物理国家重点实验室清华大学物理系
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多铁性
六方锰氧化物
透射电子显微术
异相边界
研究起点
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期刊影响力
电子显微学报
主办单位:
中国物理学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1000-6281
CN:
11-2295/TN
开本:
大16开
出版地:
北京中关村北二条13号(北京2724信箱)
邮发代号:
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
3728
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3
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20226
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