灯丝/基体距离对金刚石涂层质量的影响

• 作者: 刘畅 周欢子 杨俊杰 王博 赵晓凯 邓福铭
• 来源期刊: 硬质合金
• 关键词: 基体温度 涂层质量 基体与灯丝距离 基体预处理
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 316-320
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-7292.2013.12.004

摘要

热丝CVD法金刚石膜生长中基体温度对金刚石薄膜的质量有很大的影响,而基体与灯丝的距离决定着基体沉积温度的高低.本实验采用单一变量法,在其它工艺参数不变的情况下,研究不同基体与灯丝距离对CVD金刚石涂层的质量的影响.采用扫描电镜、Raman光谱、洛氏硬度计对试样的表面形貌、成分和涂层与基体的结合力进行测定.结果表明,当采用两步法基体预处理,在碳源体积浓度为2％、沉积气压为3kPa、反应功率为4 kW时,得到最优金刚石涂层质量的热丝与基体的距离为5 mm.