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摘要:
通过干氧热氧化方法在硅纳米线阵列表面生长一层SiO2钝化膜,研究不同热氧化温度对硅纳米线阵列的钝化效果的影响.实验结果表明,在850℃热氧化温度下得到SiO2钝化膜具有最佳的钝化效果.经过该方式钝化后的硅纳米线阵列具有最大的有效少子寿命,最好的内量子效率曲线,以及最好的太阳能转换效率.与未做热氧化钝化处理的基于硅纳米线阵列电池相比,该电池的短路电流、开路电压和转换效率分别提高了96 mA、12.7 mV和0.99%.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 热氧化温度对基于硅纳米线阵列太阳电池性能的影响
来源期刊 上海电机学院学报 学科 物理学
关键词 热氧化 硅纳米线阵列 钝化 太阳电池
年,卷(期) 2013,(1) 所属期刊栏目 数理科学
研究方向 页码范围 83-87
页数 5页 分类号 O472.2
字数 2923字 语种 中文
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1 林星星 上海电机学院数理教学部 6 4 2.0 2.0
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热氧化
硅纳米线阵列
钝化
太阳电池
研究起点
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相关学者/机构
期刊影响力
上海电机学院学报
双月刊
2095-0020
31-1996/Z
16开
上海市橄榄路1350号
1987
chi
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1800
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4
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