pH值对硅掺杂TiO2薄膜光电化学性能的影响

• 作者: 孙钰珺 崔晓莉
• 来源期刊: 复旦学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 二氧化钛 硅掺杂 直流反应磁控溅射 pH值 光电化学性能
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 9-14
• 分类号: O646
• 语种: 中文

摘要

以Ti-Si镶嵌靶采用直流反应磁控溅射法制备了Si掺杂TiO2薄膜(Si-TiO2).通过场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、X-射线光电子能谱(XPS)及紫外-可见光吸收光谱对样品进行了表征,研究了薄膜样品在不同pH值的电解液中的光电化学性能.XPS结果表明,Si-TiO2中存在Ti-O-Si键,表明Si原子以掺杂形式进入TiO2晶格；与纯TiO2相比,Si-TiO2的表面颗粒尺寸有所增大,光学吸收带边发生红移.在pH值为1～13的电解液中,Si-TiO2薄膜相比纯TiO2薄膜的光电化学响应提高.碱性电解液尤其是pH值大于12时能够进一步提高Si-TiO2薄膜的光电化学性能,而酸性电解液则比较难以使样品的光电化学性能得到提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	崔晓莉	复旦大学材料科学系	42	1222	18.0	34.0
2	孙钰珺	复旦大学材料科学系	2	4	1.0	2.0