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摘要:
真空-压力浸渍设备主要用于无线电元件、电器产品的真空加压浸渍,是现代电子产业高标准,高要求所必需的生产设备。介绍了真空-压力浸渍设备在工业浸渍中所应实现的功能流程,以及此设备的主要技术指标,介绍了其主要的机械结构设计,最后对整个设备的控制系统和软件设计也作了简单总结。
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真空浸渍
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 真空-压力浸渍设备的研制
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 真空-压力浸渍 薄膜脱气 PLC 控制
年,卷(期) 2013,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 5-8
页数 4页 分类号 TN605
字数 2848字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 耿涛 中国电子科技集团公司第二研究所 10 6 2.0 2.0
2 张慧军 中国电子科技集团公司第二研究所 4 5 1.0 2.0
3 段青鹏 中国电子科技集团公司第二研究所 7 37 3.0 6.0
4 申璐青 中国电子科技集团公司第二研究所 3 5 2.0 2.0
传播情况
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引文网络
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二级参考文献  (0)
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参考文献  (0)
节点文献
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2013(0)
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2018(3)
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研究主题发展历程
节点文献
真空-压力浸渍
薄膜脱气
PLC 控制
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
总下载数(次)
31
总被引数(次)
10002
论文1v1指导