超光滑加工技术中光学元件表面材料的均匀去除

• 作者: 刘健 王君林 陈华男
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 小磨头 超光滑加工 均匀去除 等值驻留时间
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 微纳光学材料
• 页码范围: 417-422
• 页数: 6页
• 分类号: O439
• 字数: 3414字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/gzxb20134204.0417

摘要

超光滑加工通常是在保证光学元件面型精度不劣化前提下提升其中高频精度.均匀去除是保证超光滑加工过程中光学元件面型精度不劣化的重要途径.本文以四轴三联动小磨头超光滑加工机床为基础,结合Preston假设,研究了四轴三联动超光滑加工机床对光学元件的材料去除特性,发现当机床取某些特定的参量时,通过等值的驻留时间规划即可实现光学元件表面材料的均匀去除.最后,对这些特定的参量进行了对比实验,实验结果验证了理论分析的正确性

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘健	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	117	2097	25.0	41.0
2	王君林	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	17	59	4.0	7.0
3	陈华男	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	7	17	3.0	4.0