修饰掺硼金刚石电极循环伏安法检测尿酸

• 作者: 吴小国 尹振超 张聪聪 戴玮 朱宁 陈凯玉
• 来源期刊: 光电子·激光
• 学科: 医学
• 关键词: 掺硼金刚石(BDD)薄膜电极 循环伏安法(CVa) 尿酸(UA) 电催化氧化
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 生物医学光子学
• 页码范围: 1026-1031
• 页数: 6页
• 分类号: R318.51
• 语种: 中文

摘要

用直流等离子体喷射化学气相沉积(CVD)法制备掺硼金刚石(BDD)薄膜电极.通过扫描电镜(SEM)观察到薄膜表面分布均匀致密；霍尔测试仪检测薄膜的电阻率为0.023 Ω·cm,载流子浓度为6.423×1019 cm-3；循环伏安法(CVa)测得其电极电势窗为3.4V;分析了浓度为10 μmol/L的尿酸(UA)溶液在BDD电极表面的电化学响应,表明扫描速率的平方根与氧化峰电流呈线性关系.通过对比茜素黄、牛磺酸和L-半胱氨酸3种物质对BDD电极进行修饰,表明由L-半胱氨酸修饰BDD电极的电催化氧化能力最强；在浓度为1×10-7～1×10-4 mol/L范围内,浓度的对数与氧化峰电流呈线性关系,且检测限为1×108 mol/L.实验结果表明,20倍浓度的葡萄糖和抗坏血酸对UA的检测不构成影响.