Ti(SO4)2为钛源电沉积法制备TiO2薄膜的研究

• 作者: 庄稼 曾宪光 王红 罗昌森 邓飞
• 来源期刊: 化工新型材料
• 关键词: TiO2薄膜 制备 阴极电沉积法 工艺条件
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 新材料与新技术
• 页码范围: 52-54
• 页数: 3页
• 字数: 3297字
• 语种: 中文

摘要

以Ti(SO4)2为钛源采用阴极电沉积法在导电玻璃上生成TiO2薄膜.采用单因素法分析了电压、pH、时间等因素对阴极电沉积TiO2薄膜的影响,确定了电沉积液最佳配方和工艺条件,并采用XRD、SEM、TG-DTA等分析手段进行了表征.实验结果表明:阴极电沉积法制备TiO2薄膜的最佳配方及工艺条件为10mLTi(SO4)2,3mLH2O2,2mLHNO3,8mL NH3·H2O,20mL H2O,pH为1.5,电压为3.5V,沉积时间为20min.在此条件下,在导电玻璃上能够形成一层均匀TiO2薄膜,经XRD检测该膜层晶型为锐钛矿,该膜层可应用于染料敏化太阳能电池、光催化等领域.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王红	四川理工学院材料与化学工程学院	35	74	4.0	7.0
2	曾宪光	西南石油大学材料科学与工程学院	3	15	2.0	3.0
6	庄稼	西南石油大学材料科学与工程学院	49	329	11.0	16.0
7	罗昌森	四川理工学院材料与化学工程学院	17	42	4.0	5.0
8	邓飞	四川理工学院材料与化学工程学院	1	2	1.0	1.0