模板法交流沉积金纳米线的影响因素

• 作者: 吴曌 张云望 杜凯
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 多孔氧化铝模板 阻挡层 交流电沉积 金纳米线
• 年，卷（期）: 2013,（8）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 2000-2006
• 页数: 7页
• 分类号: TQ153.1
• 字数: 4923字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20132508.2000

摘要

使用交流电沉积在多孔氧化铝模板中制备金纳米线,对交流电沉积时阻挡层厚度、交流电压、交流频率等因素进行了系统的研究和探讨.使用交流电沉积制备出了直径30 nm、长度2.1μm的形貌完好、长度均一的金纳米阵列.结果表明模板的阻挡层厚度能够显著影响金属的沉积电位,是保证沉积顺利进行的重要因素.通过记录、分析不同条件下交流沉积过程中时间-电流曲线来对交流沉积过程进行深入研究并提出相应机理.发现同频率下平台电流值不变,纳米线的长度与交流电压大小成正比,而同电压下沉积的平台电流与交流电频率成正比,这些都与阻挡层的半导体特性有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜凯	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	72	527	11.0	19.0
2	张云望	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	9	24	3.0	4.0
3	吴曌	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	1	3	1.0	1.0