交流电沉积条件对沉积Ni纳米线的影响

• 作者: 宋国君 彭智 邢晓云 陈丽娜
• 来源期刊: 青岛大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: AAO模板 交流电沉积 滤波 频率
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 物理与化学
• 页码范围: 30-34
• 分类号: O614.81+3
• 字数: 3489字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-1037.2012.08.008

摘要

采用恒压40V二次阳极氧化方法制备了阳极氧化铝(AAO)模板,模板的孔径均匀有序.在二次阳极氧化的基础上阶梯降低电压至10V,可有效减薄阻隔层,有利于Ni纳米线的交流电沉积.利用扫描电子显微镜和透射电子显微镜对AAO模板以及Ni纳米线的形貌进行表征.探索了阶梯降低氧化电压、电源滤波以及电沉积频率对沉积Ni纳米线的影响.结果表明,阶梯降低氧化电压、适当的频率以及滤波可以明显提高电沉积效果,得到比较均匀有序的Ni纳米线.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋国君	青岛大学化学化工与环境学院	171	1471	19.0	28.0
2	彭智	青岛大学化学化工与环境学院	28	109	6.0	8.0
3	陈丽娜	青岛大学化学化工与环境学院	9	18	2.0	4.0
4	邢晓云	青岛大学化学化工与环境学院	3	3	1.0	1.0