Mn掺杂对铁酸铋薄膜漏电流和铁电性能的影响

• 作者: 罗劲明
• 来源期刊: 嘉应学院学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Mn掺杂 铁酸铋 漏电流 铁电性能
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 所属期刊栏目: 物理与电子信息
• 页码范围: 26-29
• 页数: 4页
• 分类号: O482
• 字数: 2015字
• 语种: 中文

摘要

采用溶胶凝胶的化学溶液沉积法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了不同浓度(0,0.05,0.1 at.％)的Mn掺杂铁酸铋薄膜.薄膜晶体结构的X射线衍射结果显示不同浓度掺杂的薄膜平均晶粒尺寸相差并不大,而薄膜的漏电流分析则表明5％ Mn掺杂的铁酸铋薄膜比未掺杂和10％ Mn掺杂的薄膜漏电流要小.此外,通过薄膜的铁电性能测试发现5％ Mn掺杂的铁酸铋薄膜比未掺杂和10％ Mn掺杂的薄膜的铁电性能也要好.根据缺陷化学理论,由氧空位的电荷补偿引起的Fe离子和Mn离子价态变化是产生这一结果的主要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗劲明	嘉应学院物理与光信息科技学院	11	18	3.0	4.0