光学元件离子束修形去除效率分析

• 作者: 周林 尹国举 戴一帆 李圣怡 解旭辉
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 离子束修形 去除效率 入射能量 离子光学系统
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 精密加工
• 页码范围: 351-357
• 分类号: TG321
• 语种: 中文
• DOI: 10.13494/j.npe.20140002

摘要

离子束修形(IBF)技术成为光学零件获得超高面形必不可少的加工工艺.修形过程中采用光阑获取小的束径、稳定的去除函数是获得超高面形精度的前提.不同材料和工艺参数等不同条件下获得的去除函数都不相同,每次修形前都要重新测量去除函数.研究了不同入射能下、不同靶距下以及有无光阑时去除函数的变化.发现在离子光学系统几何参数一定的条件下,离子束去除函数的效率变化与入射能量、离子体浓度引起的离子鞘形状、束散角、温度、靶距、净加速电压与总加速电压之比的变化等因素都有关.当增大入射能量时,去除效率随之增加,但当入射能量大于一定值后就会出现随着入射能量增加而去除效率降低的“拐点”现象.有无光阑只改变去除效率的大小而不会改变“拐点”现象.因此不选用入射能量增大而去除效率减小的“拐点”之后的入射能量修形.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴一帆	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	64	1121	16.0	32.0
2	李圣怡	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	77	1079	17.0	30.0
3	解旭辉	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	21	255	8.0	15.0
4	周林	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	13	72	6.0	8.0
5	尹国举	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	1	2	1.0	1.0