配向膜材料与面残影的关联性研究

• 作者: 刘晓那 周波 宋勇志 徐长健 林承武 袁剑峰 邵喜斌 陈松飞 马国靖
• 来源期刊: 液晶与显示
• 关键词: 配向膜 电压保持率 残余电流 残影
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 材料物理和化学
• 页码范围: 317-321
• 页数: 5页
• 字数: 2026字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20142903.0317

摘要

利用mini-cell作为评价平台,从配向膜材料自身特性角度,对配向膜材料与面残影之间的关联性进行了综合研究.一方面,配向膜材料自身优异的稳定性有助于维持电压保持率(VHR);另一方面,配向膜材料自身的低电阻率特性有助于存储电荷的释放,利于实现较低的残余电流(RDC).而当配向膜材料的RDC和高低温间VHR变化值同时处于较低水平时,可以获得面残影水平较低的TFT-LCD模块.因此,利用mini-cell对配向膜材料进行评估,通过比较RDC以及△VHR数值,可以间接实现对TFT-LCD的残影结果评估,为实际生产中产品残影的改善提供了基础理论指导,具有重要的指导性作用.