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摘要:
采用了自制双槽和电化学腐蚀法在不同电阻率的硅片上制备出表面平整度很好的纳米多孔硅层,利用场发射扫描电子显微镜对多孔硅的微观形貌进行了分析表征.实验表明多孔硅的孔径、孔隙率和厚度随电化学腐蚀的电流密度和腐蚀时间增加而增加,且电解液中HF(40%)和无水乙醇(99.7%)的配比很趋近时,多孔硅的孔洞分布均匀性越好.在电阻率为0.01 ~0.02 Ω·cm的P型硅片上制备的纳米多孔硅其效果相比其他电阻率的要好.
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文献信息
篇名 纳米多孔硅可控制备研究
来源期刊 电子测量与仪器学报 学科 工学
关键词 纳米多孔硅 电化学腐蚀法 电阻率 可控制备 表征
年,卷(期) 2014,(12) 所属期刊栏目 学术论文
研究方向 页码范围 1308-1316
页数 9页 分类号 TN4
字数 4762字 语种 中文
DOI 10.13382/j.jemi.2014.12.002
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电化学腐蚀法
电阻率
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电子测量与仪器学报
月刊
1000-7105
11-2488/TN
大16开
北京市东城区北河沿大街79号
80-403
1987
chi
出版文献量(篇)
4663
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23
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安徽省科技攻关计划
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