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摘要:
随着器件尺寸的不断减小,集成度的逐步提高,功耗成为了制约集成电路产业界发展的主要问题之一。由于通过引入带带隧穿机理可以实现更小的亚阈值斜率,隧道场效应晶体管(TFET)器件已成为下一代集成电路的最具竞争力的备选器件之一。但是TFET器件更薄的栅氧化层、更短的沟道长度容易使器件局部产生高的电流密度、电场密度和热量,使得其更容易遭受静电放电(ESD)冲击损伤。此外, TFET器件基于带带隧穿机理的全新工作原理也使得其ESD保护设计面临更多挑战。本文采用传输线脉冲的ESD测试方法深入分析了基本TFET器件在ESD冲击下器件开启、维持、泄放和击穿等过程的电流特性和工作机理。在此基础之上,给出了一种改进型TFET抗ESD冲击器件,通过在源端增加N型高掺杂区,有效的调节接触势垒形状,降低隧穿结的宽度,从而获得更好的ESD设计窗口。
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文献信息
篇名 隧道场效应晶体管静电放电冲击特性研究
来源期刊 物理学报 学科
关键词 隧道场效应晶体管(TFET) 静电放电(ESD) 传输线脉冲(TLP) 带带隧穿机理
年,卷(期) 2014,(17) 所属期刊栏目 物理学交叉学科及有关科学技术领域
研究方向 页码范围 178501-1-178501-8
页数 1页 分类号
字数 语种 中文
DOI 10.7498/aps.63.178501
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 贾嵩 北京大学微纳电子学研究院 19 79 5.0 8.0
3 王源 北京大学微纳电子学研究院 20 87 5.0 9.0
5 曹健 北京大学微纳电子学研究院 10 29 3.0 5.0
6 陆光易 北京大学微纳电子学研究院 2 8 2.0 2.0
9 张立忠 北京大学微纳电子学研究院 1 5 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
隧道场效应晶体管(TFET)
静电放电(ESD)
传输线脉冲(TLP)
带带隧穿机理
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
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