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摘要:
本文设计了W波段分布作用速调管高压缩比电子枪和均匀场永磁聚焦系统;分析了电子枪区瓷封边对枪区磁场以及电子注直流通过率的影响;分析了不同聚焦磁场下的电子枪区磁场,并进行了测试分析,获得和模拟相一致的结果;给出了电子枪区铁磁性材料的两种工程上的可行性解决方案,增大磁屏开孔方案和部分瓷封边替换方案,其中采用瓷封边部分替换方案可以获得高的电子枪面压缩比.
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文献信息
篇名 W波段分布作用速调管电子光学系统的研究
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 工学
关键词 W波段 高压缩比 电子光学 分布作用速调管
年,卷(期) 2014,(8) 所属期刊栏目 电子器件
研究方向 页码范围 819-823
页数 分类号 TN122
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-7126.2014.08.09
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 赵鼎 中国科学院高功率微波源与技术重点实验室中国科学院电子学研究所 27 129 7.0 10.0
2 阮存军 中国科学院高功率微波源与技术重点实验室中国科学院电子学研究所 24 227 10.0 14.0
3 王树忠 中国科学院高功率微波源与技术重点实验室中国科学院电子学研究所 24 221 9.0 14.0
4 董玉和 内蒙古科技大学数理生学院 16 72 5.0 8.0
5 杨修东 中国科学院高功率微波源与技术重点实验室中国科学院电子学研究所 6 19 2.0 4.0
6 张长青 中国科学院高功率微波源与技术重点实验室中国科学院电子学研究所 7 18 2.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
W波段
高压缩比
电子光学
分布作用速调管
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研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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真空科学与技术学报
月刊
1672-7126
11-5177/TB
大16开
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1981
chi
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