典型工艺缺陷对光波导特性的影响研究

• 作者: 王健 范哲珲
• 来源期刊: 光电技术应用
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体光波导 工艺缺陷 有限元法 传输模式分析
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: 光电器件与材料
• 页码范围: 26-30
• 页数: 5页
• 分类号: TN25
• 字数: 3514字
• 语种: 中文

摘要

针对半导体光波导实际制作过程中出现的典型工艺缺陷,基于有限元法提出了有效的分析方法.首次计算了真实光场入射情况下,缺陷存在时波导内部的光场,并分析了缺陷位置、大小、缺陷类型和入射光波长对半导体光波导损耗和模式耦合的影响.分析结果表明,波导传输损耗随缺陷大小和光波长振荡变化;折射率较大的缺陷,振荡频率较高;缺陷从芯区中心移向边缘时,传输损耗随波导结构尺寸振荡变化,变为单调增大.损耗能量一部分形成辐射模进入衬底,另一部分耦合成高阶模.缺陷明显增加半导体光波导损耗,改变波导传输模式,显著劣化集成光路性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王健		3	2	1.0	1.0
2	范哲珲	北京交通大学理学院发光与光信息技术教育部重点实验室	1	2	1.0	1.0