钛酸钡陶瓷基片的双面研抛加工研究

• 作者: 李国明 潘继生 阎秋生
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 钛酸钡陶瓷 双面研磨 抛光 去除机理 表面粗糙度 表面形貌
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 页码范围: 11-16
• 页数: 6页
• 分类号: TG74
• 字数: 2817字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2015.1.0003

摘要

采用氧化铝磨料对钛酸钡(BaTiO3)陶瓷基片进行双面研磨加工，分析磨料粒径、研磨压力、研磨盘转速、磨料浓度以及研磨液流量等研磨工艺参数对基片表面粗糙度和材料去除率的影响。采用双面研磨工艺，依次用W14、W7、W5的氧化铝磨料对钛酸钡陶瓷基片(原始粗糙度Ra 0.219μm)在研磨压力3.26 kPa、研磨盘转速为37 r/min、磨料质量浓度为9%、研磨液流量10 mL/min的研磨参数下，进行粗研、半精研、精研，取得了表面粗糙度Ra0.0766μm的研磨片。对研磨片继续用W0.2 SiO2抛光可获得表面粗糙度Ra为6 nm的超光滑表面。同时，用激光共聚焦显微镜和扫描电镜观察了不同加工阶段的基片表面形貌，并分析了材料去除机理；采用氧化铝磨料的研磨过程中，材料以脆性断裂去除为主；采用SiO2磨料抛光过程中，工件材料以塑性去除为主。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阎秋生	广东工业大学机电工程学院	146	787	13.0	20.0
2	潘继生	广东工业大学机电工程学院	34	203	8.0	12.0
3	李国明	广东工业大学机电工程学院	1	5	1.0	1.0