工艺参数对CrNx涂层性能的影响

• 作者: 冯威 孙艳 宋慧瑾 朱晓东 李玫 董志红 鄢强
• 来源期刊: 高技术通讯
• 关键词: 氮化铬(CrNx) 涂层 工艺参数 直流磁控溅射
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 先进制造与自动化技术
• 页码范围: 300-306
• 页数: 7页
• 字数: 3901字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3772/j.issn.1002-0470.2015.03.010

摘要

采用直流磁控溅射技术制备了氮化铬(CrNx)涂层,研究了制备CrNx涂层的工艺参数对所制备的CrNx涂层的膜基结合力及力学性能的影响.研究结果表明:工艺参数对CrNx涂层性能的影响不成各向同性关系;在较低的N2含量、较高的脉冲偏压、约100V的直流偏压、较高的真空度、较高的沉积温度和较高的靶功率下制备的CrNx涂层的硬度较高,而在较低的N2含量、恰当的脉冲偏压和占空比配对、较高的直流偏压、较高的真空度、较高的沉积温度和较高的靶功率下制备的CrNx涂层的表面形貌较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋慧瑾	成都大学工业制造学院	40	54	4.0	5.0
2	朱晓东	成都大学工业制造学院	44	123	6.0	9.0
3	李玫	成都大学城乡建设学院	27	67	4.0	7.0
4	鄢强	成都大学工业制造学院	6	7	2.0	2.0
6	冯威	成都大学工业制造学院	31	55	4.0	6.0
7	孙艳	成都大学工业制造学院	21	34	3.0	5.0
10	董志红	成都大学工业制造学院	17	50	4.0	6.0