精细雾化抛光TFT-LCD玻璃基板的抛光液研制

• 作者: 李庆忠 莫益栋
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 玻璃基板 精细雾化 抛光液 正交试验
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 438-441
• 分类号: TQ171.68
• 语种: 中文

摘要

以混合磨料氧化铈和氧化硅、pH调节剂羟乙基乙二胺、表面活性剂聚乙烯吡咯烷酮为原料配制抛光液,通过对TFT-LCD玻璃基板进行超声波精细雾化化学机械抛光的正交试验研究,优化了抛光液的成分,并对传统抛光和雾化抛光进行了对比.结果表明:当氧化铈和氧化硅的质量分数分别为4％和10％、pH值为11、表面活性剂的质量分数为1.5％时,材料去除率MRR为215nm/min,表面粗糙度Ra为1.6nm.在相同的试验条件下,传统抛光的去除率和表面粗糙度分别为304nm/min和1.5nm;虽然雾化抛光去除率略低于传统抛光,但抛光液用量仅为传统的1/8.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李庆忠	江南大学机械工程学院	47	113	5.0	6.0
2	莫益栋	江南大学机械工程学院	2	8	2.0	2.0