多弧离子镀制备TiN涂层的高温氧化行为分析

• 作者: 万强 刘辉东 杨兵 罗畅 蔡耀 陈燕鸣
• 来源期刊: 中南民族大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: TiN 多弧离子镀 氧化行为
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 物理与电子信息科学
• 页码范围: 68-71
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.4
• 字数: 2066字
• 语种: 中文

摘要

利用多弧离子镀技术沉积 TiN涂层，并在空气中对该涂层进行了500`680℃范围内的氧化实验。通过SEM与XRD技术分析了实验制备的TiN涂层及其氧化产物的结构形貌，结果表明：多弧离子镀技术所沉积的TiN涂层表面较为粗糙，存在大量颗粒与凹坑；TiN涂层在空气中的氧化产物为TiO2，550℃时存在较轻程度的氧化行为，随着温度的升高，氧化作用加剧，在温度为650℃时TiN涂层氧化程度加深，但剥落并不明显，当温度超过650℃达到680℃，TiN涂层完全氧化，部分区域因为应力作用而发生严重剥落。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨兵	武汉大学动力与机械学院	36	341	8.0	17.0
2	万强	武汉大学动力与机械学院	8	18	3.0	3.0
3	罗畅	武汉大学动力与机械学院	4	8	2.0	2.0
4	刘辉东	武汉大学动力与机械学院	4	9	2.0	3.0
5	陈燕鸣	武汉大学动力与机械学院	6	13	2.0	3.0
6	蔡耀	武汉大学动力与机械学院	4	7	2.0	2.0