CMP设备承载台关键技术研究

• 作者: 姜家宏 李伟 王广峰 王铮
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光设备 承载台 固有频率
• 年，卷（期）: 2015,（11）
• 所属期刊栏目: 半导体制造工艺与设备
• 页码范围: 28-31
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 1885字
• 语种: 中文

摘要

介绍了化学机械抛光设备中承载台机构的功能、结构组成,筛选合适的承载台材料,并通过运用MSC PARTRAN有限元软件对该机构进行模态分析,研究它的固有频率及振动特性,综合对比后,选择合适的方案,满足工艺过程的需求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李伟	中国电子科技集团公司第四十五研究所	71	74	5.0	5.0
2	王铮	中国电子科技集团公司第四十五研究所	16	7	2.0	2.0
3	姜家宏	中国电子科技集团公司第四十五研究所	6	3	1.0	1.0
4	王广峰	中国电子科技集团公司第四十五研究所	1	0	0.0	0.0