椭圆光谱法研究TiO2薄膜的光学性能

• 作者: 史新伟 姚宁 崔立斌 王新昌 王晓
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: TiO2薄膜 椭圆光谱法 磁控溅射 压强
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 97-102
• 页数: 6页
• 分类号: O433.4|TB34
• 语种: 中文

摘要

使用直流磁控溅射法,通过改变沉积压强在玻璃衬底上制备了TiO2薄膜.通过椭圆光谱法研究了TiO2薄膜的光学性能;利用场发射扫描电子显微镜、X射线衍射对薄膜的表面形貌和结构进行了表征.结果表明:压强的大小在磁控溅射法制备TiO2薄膜过程中能有效控制其晶粒尺寸、膜厚及薄膜的折射率.压强越大,晶粒尺寸越小,吸收边“蓝移”越明显;薄膜厚度随压强的增大先增加后减小;平均折射率随压强的增大呈下降趋势,消光系数在可见光波段的平均值趋于零.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚宁		122	692	12.0	18.0
2	王新昌		30	79	4.0	7.0
3	史新伟		28	177	7.0	12.0
4	王晓		32	228	8.0	14.0
5	崔立斌		2	3	1.0	1.0