弯月面涂胶均匀性改进

• 作者: 付绍军 刘正坤 刘颖 徐向东 林继平 洪义麟 蒋晓龙 邱克强
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 弯月面涂胶 大面积衍射光学元件 光刻胶均匀涂覆
• 年，卷（期）: 2015,（12）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 31-35
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7|TN307
• 字数: 3440字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201527.121003

摘要

针对大面积衍射光学元件制作过程中对光刻胶均匀涂覆的困难,研究弯月面均匀涂胶方法.利用沟槽型弯月面涂胶机,分析影响光刻胶厚度和厚度均匀性的因素.从实验上验证了光刻胶的胶厚和涂覆扫描速率的正相关关系.分析了光刻胶的浓度、基片与涂覆器刀口间隙、供胶速率等因素对胶厚及胶厚均匀性的影响.利用非接触式的激光微位移传感器监测基片和涂覆器刀口间隙,控制此间隙的抖动小于15μm,优化系统运行的稳定性,提升了弯月面涂覆胶厚的均匀性,实现了胶厚峰谷值偏差3％和标准偏差0.5％的均匀光刻胶涂覆,能够满足脉宽压缩光栅等制作过程中对光刻胶均匀涂覆的需求.