纳米金刚石膜真空窗口的制备

• 作者: 付秋明 吴超 汪建华 王传新 马志斌 高攀
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 真空窗口 微波等离子体化学气相沉积 漏气率
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 页码范围: 24-26,36
• 页数: 4页
• 分类号: TM832|TQ164
• 字数: 1794字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.2.0006

摘要

使用自制的微波等离子体化学气相沉积装置,以乙醇为碳源在(100)硅表面制备了金刚石膜；然后用浓硝酸和氢氟酸的混合溶液腐蚀硅,制备出金刚石膜窗口。使用场发射扫描电镜(SEM)、X 射线衍射、拉曼光谱(Raman)、原子力显微镜(AFM)表征和分析金刚石膜,并以自制的漏气率测量系统测量金刚石膜窗口的漏气率。结果表明：金刚石膜的厚度为15μm,平均粗糙度值 Ra 为39.5 nm,晶粒的尺寸大小为30 nm,漏气率为8.8×10