全薄膜电致变色器件gIass／ITO／NiOx／ZrO2∶H／WO3／ITO中单层膜的表征及器件的光学性能

• 作者: 刁训刚 刘齐荣 宋兴旺 董国波
• 来源期刊: 聊城大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 全薄膜电致变色器件 透过率
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 基础科学研究
• 页码范围: 23-27
• 页数: 5页
• 分类号: TK-9
• 字数: 2931字
• 语种: 中文

摘要

采用磁控溅射法制备了glass／ITO／NiOx／ZrO2：H／WO3／ITO全薄膜电致变色器件，并对单层膜的结构及性能进行了研究．器件中NiO x 、ZrO2：H和WO3各单层薄膜的SEM、XRD以及XPS的测试结果表明：NiO x 薄膜表面颗粒之间有孔隙存在，这些空隙有利于 H＋的嵌入和脱出；而ZrO2：H薄膜和WO3薄膜的表面粗糙，颗粒度较小，这样的表面形貌有利于电致变色反应的发生．采用紫外‐可见光分光光度计对器件的光学性能及循环寿命进行研究，器件经历60000次连续着褪色循环后，着色响应时间明显迟缓，褪色响应时间变化不显著，在可见光范围内的透过率调节范围仍可以达到57．9％，表明该器件具有良好的可见光调制性能和较长的循环寿命，初步达到了商业化应用的要求．

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刁训刚	北京航空航天大学能源与动力学院	55	359	10.0	16.0
5	董国波	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院	16	30	3.0	5.0
6	宋兴旺	北京航空航天大学能源与动力学院	1	3	1.0	1.0