二轴稳定平台稳定精度分析

• 作者: 马文韬
• 来源期刊: 新技术新工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 稳定平台 稳定精度 干扰力矩
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 加工工艺与设备
• 页码范围: 10-12
• 页数: 3页
• 分类号: TN124
• 字数: 1452字
• 语种: 中文

摘要

稳定平台是一种安装在载体上,能够隔离载体安装面的位置变化,提供一个水平安装面的设备.主要对某二轴稳定平台的稳定精度进行了分析,得到了稳定精度与干扰力矩大小有关的结论,干扰力矩增大,稳定精度下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马文韬	中国电子科技集团公司第二十八研究所	1	0	0.0	0.0