激光烧蚀硅靶下荷电粒子和纳米晶粒的电流响应研究

• 作者: 丁学成 于燕超 王英龙 褚立志 赵红东 邓泽超
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光烧蚀 纳米Si晶粒 尺寸 电流
• 年，卷（期）: 2016,（7）
• 页码范围: 1736-1740
• 页数: 5页
• 分类号: O78
• 字数: 1852字
• 语种: 中文

摘要

采用波长为308 nm的XeCl脉冲准分子激光器,在5～50 Pa的Ar气压下烧蚀高阻抗单晶硅(Si)靶.在烧蚀点正前方、距靶1.5 cm处放置一个中心开孔直径为2 mm的挡板,挡板后面上下对称放置两个极板,然后串联一个标准电阻接地,电阻大小为10 Ω,利用高分辨数字存储示波器记录并测量回路中产生的瞬间电流来研究荷电粒子和纳米晶粒的电流响应.实验结果表明烧蚀产物中的正离子在气压为5 Pa时到达极板上数量最多.纳米Si晶粒带正电并且随着气压的增加纳米Si晶粒下落到极板的数量呈现先增大后减小趋势,在气压为8 Pa时达到最大值,这与扫描电子显微镜的测量结果基本一致.所得结果为进一步研究烧蚀粒子在环境气体中的输运动力学过程提供了依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓泽超	河北大学物理科学与技术学院	48	123	6.0	8.0
2	褚立志	河北大学物理科学与技术学院	47	155	7.0	10.0
3	丁学成	河北大学物理科学与技术学院	44	89	5.0	7.0
4	王英龙	河北大学物理科学与技术学院	96	301	9.0	12.0
5	赵红东	河北工业大学信息工程学院	88	427	10.0	17.0
6	于燕超	河北大学物理科学与技术学院	1	1	1.0	1.0