磁控溅射沉积气致变色WO3薄膜研究进展

• 作者: 侯朝霞 彭洋 温佳星 王少洪 王新宇 王美涵 胡小丹
• 来源期刊: 中国材料进展
• 学科: 工学
• 关键词: WO3薄膜 磁控溅射 掠射角 纳米结构 气致变色
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 青年园地
• 页码范围: 57-63
• 页数: 7页
• 分类号: TB381
• 字数: 7543字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7502/j.issn.1674-3962.2016.01.08

摘要

氧化钨薄膜因其特殊的物理化学性质,在智能窗、传感器等诸多新领域具有广泛的应用前景.为使WO3薄膜气致变色特性得到良好的应用,需要制备新型纳米结构氧化钨薄膜.磁控溅射是工业制备WO3薄膜的有效方法之一.掠射角磁控溅射是在传统磁控溅射基础上发展的新型薄膜制备技术,通过将衬底倾斜一定角度,可制备出具有高结晶度、大比表面积、排列规则的纳米结构WO3薄膜.综述了氧分压、溅射功率及热处理等磁控溅射参数对WO3薄膜组成、形貌、晶体结构等的影响,重点介绍了具有独特优势的掠射角磁控溅射技术,及利用其制备得到的纳米结构WO3薄膜在智能窗和气体传感器等方面的应用,提出了掠射角磁控溅射制备纳米结构WO3薄膜存在的问题及未来发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王少洪	沈阳大学机械工程学院	21	86	4.0	9.0
2	侯朝霞	沈阳大学机械工程学院	40	149	6.0	11.0
3	王美涵	沈阳大学机械工程学院	31	76	5.0	7.0
4	胡小丹	沈阳大学机械工程学院	19	43	4.0	5.0
5	温佳星	沈阳大学机械工程学院	5	21	3.0	4.0
6	彭洋	沈阳大学机械工程学院	3	14	2.0	3.0
7	王新宇	沈阳大学机械工程学院	9	38	4.0	6.0