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摘要:
基于大数据分析的失效分析技术,研究了制约先进集成电路良率的系统性问题方法.应用Yield Explorer分析软件对集成电路测试结果进行基于大规模的统计分析的再诊断.根据晶圆的针测结果,利用Yield Explorer的大量自动诊断功能,选取晶圆最外面5圈的芯片进行分析,找到了影响制约晶圆良率的系统性问题.通过选取最佳的失效样品进行物理失效分析,找到失效的真正工艺因素,经工艺优化后的晶圆良率提高了约2%.
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文献信息
篇名 基于大数据分析的半导体工艺的良率提升研究
来源期刊 南通大学学报(自然科学版) 学科 工学
关键词 大数据 半导体工艺 良率 系统性问题 晶圆
年,卷(期) 2016,(4) 所属期刊栏目 电子 信息工程与计算机科学
研究方向 页码范围 17-21,37
页数 6页 分类号 TN307
字数 3712字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王强 南通大学电子信息学院 60 132 6.0 8.0
2 赵苏华 南通大学工程训练中心 3 16 2.0 3.0
3 黄倩露 南通大学电子信息学院 4 7 1.0 2.0
4 陆健 北京大学软件与微电子学院 1 7 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
大数据
半导体工艺
良率
系统性问题
晶圆
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
南通大学学报(自然科学版)
季刊
1673-2340
32-1755/N
大16开
江苏省南通市啬园路9号
2002
chi
出版文献量(篇)
1549
总下载数(次)
7
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6139
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