不同PVD技术沉积TiN涂层的形貌和力学性能研究

• 作者: 刘星 王明娥 董闯 马国佳
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 关键词: 物理气相沉积 TiN涂层 摩擦磨损 复合沉积
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 3080-3084
• 页数: 5页
• 语种: 中文

摘要

采用阴极弧沉积、中频磁控溅射及二者的复合技术在GCr15基底上制备了TiN涂层.通过扫描电镜、XRD谱、微米划痕测试、硬度测试以及摩擦磨损测试对涂层的组织结构和力学性能进行了表征及对比.结果表明,采用复合磁控阴极弧技术制备的TiN涂层具有较好的综合性能,如较光滑的表面、较高的结合力和硬度,故磨损率较低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董闯		198	2023	23.0	34.0
2	刘星		8	19	3.0	4.0
3	马国佳		7	122	5.0	7.0
4	王明娥		4	7	2.0	2.0