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TiO2纳米颗粒在单晶硅表面的吸附
TiO2纳米颗粒在单晶硅表面的吸附
作者:
周有欣
宋孝宗
王宏刚
高贵
龚俊
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
TiO2纳米颗粒
超光滑表面
单晶硅表面
化学吸附
紫外光诱导纳米颗粒胶体射流加工
摘要:
为了实现亚纳米级超光滑表面的加工,建立了紫外光诱导纳米颗粒胶体射流加工系统,同时研究了加工过程中纳米颗粒与工件表面间的相互作用机理.首先,对实验所用锐钛矿TiO2纳米颗粒及单晶硅工件表面进行表征测量.然后,用第一性原理的平面波赝势计算方法研究了纳米颗粒胶体射流加工中TiO2分子团簇在单晶硅表面化学吸附的表面构型结构及其体系能量.最后,开展了TiO2纳米颗粒及单晶硅工件表面间的吸附实验.实验结果表明:胶体中的OH基团在TiO2团簇表面及单晶硅表面分别发生化学吸附,在TiO2纳米颗粒及单晶硅表面吸附过程中形成了新的Ti-O-Si键及化学吸附的H2O分子.红外光谱实验结果显示:TiO2纳米颗粒与单晶硅界面间存在新生成的Ti-O-Si键.这种界面间的相互作用证实了紫外光诱导纳米颗粒胶体射流抛光过程可实现材料去除的化学作用机理.
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有机表面改性
内容分析
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内容分析
关键词云
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相关文献总数
(/次)
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文献信息
篇名
TiO2纳米颗粒在单晶硅表面的吸附
来源期刊
光学精密工程
学科
工学
关键词
TiO2纳米颗粒
超光滑表面
单晶硅表面
化学吸附
紫外光诱导纳米颗粒胶体射流加工
年,卷(期)
2016,(7)
所属期刊栏目
微纳技术与精密机械
研究方向
页码范围
1694-1702
页数
9页
分类号
TB302|TB383
字数
3072字
语种
中文
DOI
10.3788/OPE.20162407.1694
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王宏刚
中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室
31
305
10.0
16.0
2
龚俊
兰州理工大学机电工程学院
157
837
15.0
17.0
3
周有欣
兰州理工大学机电工程学院
3
18
3.0
3.0
4
宋孝宗
兰州理工大学机电工程学院
10
23
3.0
4.0
5
高贵
中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室
12
65
5.0
7.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(89)
共引文献
(152)
参考文献
(13)
节点文献
引证文献
(9)
同被引文献
(30)
二级引证文献
(0)
1956(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1973(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1986(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1989(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1990(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1992(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1993(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
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参考文献(0)
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参考文献(0)
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参考文献(0)
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参考文献(0)
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参考文献(2)
二级参考文献(6)
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二级引证文献(0)
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引证文献(1)
二级引证文献(0)
2019(7)
引证文献(7)
二级引证文献(0)
2020(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
TiO2纳米颗粒
超光滑表面
单晶硅表面
化学吸附
紫外光诱导纳米颗粒胶体射流加工
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学精密工程
主办单位:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国仪器仪表学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1004-924X
CN:
22-1198/TH
开本:
大16开
出版地:
长春市东南湖大路3888号
邮发代号:
12-166
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
6867
总下载数(次)
10
总被引数(次)
98767
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