磁控溅射镀膜的专利技术分析

• 作者: 原霞 王衍强
• 来源期刊: 工业技术创新
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 专利 技术改造
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 两化融合
• 页码范围: 1037-1039
• 页数: 3页
• 分类号: T-18
• 字数: 2087字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14103/j.issn.2095-8412.2016.05.057

摘要

磁控溅射技术越来越受到广泛应用。通过对全球磁控溅射领域的专利申请数据进行的检索、比较和分析，尤其重点关注并研究了该领域的专利申请量、申请人分布情况和技术改进方向，最后给出了针对该领域的专利申请对策和建议，为国内发明成果走向世界提供了启示。