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基于去离子水的助焊剂清洗系统设计
基于去离子水的助焊剂清洗系统设计
作者:
吴睿
赵百川
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
助焊剂
去离子水
清洗
摘要:
封装是大部分的电子产品必经的一个步骤,这是对电子产品的一种保护。在CPU的生产过程中也对其进行封装,在进行封装时需要进行电路连接。为了让产品有良好的电连接,在封装过程中就要使用助焊剂。而助焊剂对产品有一定的损害,所以在封装过程中还要对其进行清洗。本文讨论了助焊剂在封装中的作用及危害,从而设计了一套基于去离子水的清洗系统。
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文献信息
篇名
基于去离子水的助焊剂清洗系统设计
来源期刊
科技展望
学科
关键词
助焊剂
去离子水
清洗
年,卷(期)
2016,(24)
所属期刊栏目
机械化工
研究方向
页码范围
71-72
页数
2页
分类号
字数
2024字
语种
中文
DOI
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吴睿
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去离子水
清洗
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研究来源
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研究去脉
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期刊影响力
科技展望
主办单位:
宁夏科技发展战略和信息研究所
出版周期:
旬刊
ISSN:
1672-8289
CN:
64-1054/N
开本:
大16开
出版地:
宁夏回族自治区银川市
邮发代号:
创刊时间:
1991
语种:
chi
出版文献量(篇)
34711
总下载数(次)
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