去离子水清洗工艺对PZT铁电电容性能的影响

• 作者: 杨艳
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: PZT铁电电容 去离子水 铁电性能
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 13-15
• 分类号: TM28
• 字数: 1809字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2011.06.004

摘要

采用磁控溅射制备了结构为Pt/PZT/Pt/Ti/SiO2/Si的PZT铁电电容,并对样品用去离子水处理,通过测试其电滞回线以及漏电流,并结合XPS分析,研究了去离子水对PZT铁电电容的性能影响.结果表明,在去离子水清洗后,由于在PZT表面有吸附,PZT电容电滞回线沿电压轴发生漂移,电子势垒降低,漏电流增大,经过高温热处理后,性能可恢复.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨艳		4	31	2.0	4.0