紫外纳米压印技术的研究进展

• 作者: 孙洪文 殷敏琪 王海滨
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 紫外纳米压印光刻(UV-NIL) 抗蚀剂 热压印光刻(T-NIL) 步进-闪光压印光刻(S-FIL) 卷对卷纳米压印光刻(R2R-NIL)
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 347-354
• 页数: 8页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2017.05.010

摘要

传统的紫外纳米压印(UV-NIL)虽然不受曝光波长的限制,但是存在气泡残留、压印不均匀、模具寿命短等问题.为解决这些问题产生了各种新型UV-NIL工艺,针对这些工艺阐述了紫外纳米压印技术工艺要素的最新研究进展,包括模具、光刻胶的材料与制备技术的现状,并列举了步进-闪光压印光刻(S-FIL)、卷对卷式紫外纳米压印光刻(R2R-NIL)等工艺的流程及其特点.紫外纳米压印的图形质量目前仍受光刻胶填充、固化、脱模等物理行为影响.结合最近的实验研究,从理论方面概述了紫外纳米压印的基本原理,主要指出了光刻胶流动行为以及模具降解等问题.最后介绍了一些紫外纳米压印技术的尖端应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王海滨	河海大学物联网工程学院	18	102	6.0	9.0
2	孙洪文	河海大学物联网工程学院	5	16	3.0	3.0
3	殷敏琪	河海大学物联网工程学院	2	4	1.0	2.0