磁过滤电弧离子镀制备TiAlN涂层的结构与性能表征

• 作者: 孙超 宫骏 肖金泉 裴志亮 陈磊
• 来源期刊: 中国腐蚀与防护学报
• 学科: 工学
• 关键词: TiAlN涂层 磁过滤电弧离子镀 结合强度 力学性能 摩擦磨损性能
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 241-246
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.11902/1005.4537.2016.049

摘要

采用磁过滤电弧离子镀技术在高速钢基体上沉积TiAlN涂层.研究了N2分压对TiAlN涂层的相结构、化学成分、力学性能、沉积速率、表面粗糙度、结合强度以及摩擦磨损性能的影响.结果表明,N2分压的变化对涂层的结构与性能影响显著.随着N2分压的增加,TiAlN涂层呈现(111)择优取向,其硬度最高可达34 GPa.涂层的沉积速率和表面粗糙度随着N2分压的增大而逐渐降低.此外,由于大颗粒的去除使得涂层表面质量得到提升,所制备的TiAlN涂层均具有较低的摩擦系数(0.15～0.33),并且呈现良好的抗磨损性能,其最低磨损率为8.8×10-7 mm3/(N·m).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈磊	中国科学院金属研究所	65	345	10.0	15.0
2	孙超	中国科学院金属研究所	126	1708	23.0	34.0
3	宫骏	中国科学院金属研究所	52	464	12.0	20.0
4	裴志亮	中国科学院金属研究所	19	425	12.0	19.0
5	肖金泉	中国科学院金属研究所	21	112	7.0	10.0