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摘要:
为了探究原子光刻中基片与会聚激光场间距对沉积纳米光栅质量的影响,我们基于 VirtualLab Fusion(VLF)平台实现了基片定位控制方案中光学系统的建模和仿真.结果显示:基片在切割会聚激光时将产生直边衍射图像,其轮廓形状和最大值都会随着基片切割激光截面区域大小的变化而变化:虚拟光电探测器上所得到的反射光强度值将随着基片-会聚激光间距的变化给出了倒置的高斯线型,其最低点出现在基片中心和会聚激光场轴线重合时的位置上.当会聚激光场截面恰好被基片阻挡一半时,探测处的强度值降至45.5%.这种光强随基片位置的变化情况为精确地定位基片位置提供了理论支撑.
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文献信息
篇名 基于VirtualLab Fusion的原子光刻基片定位方案的光学系统仿真
来源期刊 中国计量大学学报 学科 物理学
关键词 原子光刻 铬原子 会聚激光 VirtualLabFusion平台
年,卷(期) 2017,(4) 所属期刊栏目 光学与材料科学
研究方向 页码范围 528-532
页数 5页 分类号 O439
字数 2273字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.2096-2835.2017.04.020
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 余桂英 中国计量大学计量测试工程学院 42 334 9.0 17.0
2 张宝武 中国计量大学计量测试工程学院 17 48 4.0 6.0
3 王道档 中国计量大学计量测试工程学院 33 38 4.0 5.0
4 刘媛媛 中国计量大学计量测试工程学院 5 3 1.0 1.0
5 饶鹏辉 3 3 1.0 1.0
6 霍剑锋 中国计量大学计量测试工程学院 4 4 1.0 1.0
7 张明月 中国计量大学计量测试工程学院 2 2 1.0 1.0
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