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摘要:
湿法腐蚀清洗设备是集成电路、LED、太阳能、MEMS等芯片制造中必不可少的工艺设备,而为了更好的达到腐蚀效果,在各种腐蚀工艺中往往要配合药液的循环完成,从而达到更好的腐蚀均匀性.介绍了几种常用的腐蚀工艺循环原理及在湿法腐蚀清洗设备的典型应用.
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内容分析
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文献信息
篇名 湿法腐蚀清洗设备中的循环管路应用
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 循环 湿法腐蚀清洗 硅腐蚀
年,卷(期) 2017,(2) 所属期刊栏目 半导体制造工艺与设备
研究方向 页码范围 16-18,35
页数 4页 分类号 TN305
字数 2352字 语种 中文
DOI
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 吴光庆 中国电子科技集团公司第四十五研究所 3 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
循环
湿法腐蚀清洗
硅腐蚀
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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31
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10002
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