氢分子在Cu(111)表面吸附与解离的第一性原理研究

• 作者: 周晓松 孙庆强 彭述明 杨莉 祖小涛 范开敏 龙兴贵
• 来源期刊: 电子科技大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 吸附 Cu(111)表面 解离 第一性原理 氢分子
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 物理电子学
• 页码范围: 375-379
• 页数: 5页
• 分类号: O48
• 字数: 2905字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-0548.2017.02.010

摘要

采用基于密度泛函理论的第一性原理对氢分子与Cu(111)表面的相互作用进行了研究.计算结果表明氢分子是否解离取决于氢分子距表面的初始距离和其初始构型.当氢分子垂直于Cu(111)表面放置时,在距离表面0.37~4.0?范围内,氢分子与Cu(111)表面相互作用后均不会解离,物理吸附在Cu(111)表面;当氢分子平行于Cu(111)表面放置时,有的氢分子解离成氢原子后化学吸附于表面六角(hcp)或面心(fcc)位.氢分子在桥位(bri)并沿[211]方向平行靠近Cu(111)表面时,氢分子解离的临界距离约为1.35?,其他情况下在0.65~0.85?之间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龙兴贵	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	123	496	10.0	16.0
2	彭述明	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	97	341	10.0	14.0
3	祖小涛	电子科技大学物理电子学院	111	627	12.0	17.0
4	周晓松	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	39	89	5.0	6.0
5	杨莉	电子科技大学物理电子学院	20	70	4.0	7.0
6	范开敏	四川文理学院物理与机电工程学院	17	50	4.0	6.0
7	孙庆强	电子科技大学物理电子学院	3	7	2.0	2.0