纳米晶NiO薄膜的电化学沉积及其光学性能研究

• 作者: 刘克永 吴朝晖 杜湘军 甘小燕
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: NiO 电化学沉积 微观结构 光学特性
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 研究·开发
• 页码范围: 4105-4109
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3201字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.04.018

摘要

以Ni(NO3)2水溶液为沉积液,采用阴极电化学沉积法在FTO导电玻璃上制备了纳米晶NiO薄膜.通过X射线衍射、紫外-可见光透过谱等手段表征薄膜结晶性、表面微观形貌以及光学特性.结果表明,沉积电位以及沉积时间均对电化学沉积法薄膜沉积过程存在重要影响.在优化条件下(沉积电压为-0.9 V、沉积时间为2～5 min),所获薄膜致密均一,无裂纹,对可见光的透过率高达85％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	甘小燕	武汉理工大学材料学院	6	33	3.0	5.0
5	吴朝晖		3	20	2.0	3.0
9	杜湘军	武汉理工大学材料学院	1	3	1.0	1.0
10	刘克永	武汉理工大学材料学院	1	3	1.0	1.0