基于液滴锡靶LPP-EUVL光源多层膜的溅射损伤研究

• 作者: 吴涛 姚拴
• 来源期刊: 华中师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光等离子体 自相似膨胀 离子碎屑 溅射产额 极紫外光刻
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 页码范围: 162-167
• 页数: 6页
• 分类号: O539
• 字数: 4239字
• 语种: 中文

摘要

基于Navier-Stokes方程的自相似解,研究了最小质量限制液滴Sn靶激光等离子高能离子的时空分布特性,并将该结果应用于高能离子碎屑刻蚀导致的极紫外光刻(EUVL)光源收集镜寿命的评估.对于不同的绝热膨胀指数γ=1.67、1.3和1.1,数值计算了激光等离子体平均电离度、等离子体羽辉尺寸、羽辉膨胀速率和离子动能随时间的演化,并得到了高能Sn离子碎屑通量的角分布及其轰击溅射Ru、Mo和Si膜的溅射产额及溅射刻蚀速率.研究发现,激光液滴靶等离子体中的高能Sn离子对Mo,Si多层膜的溅射刻蚀率的角分布满足cos3θ的关系.对EUVL光源而言,为了延长EUV收集镜寿命,降低激光等离子体电离度和采用最小质量限制液滴Sn靶是一条有效的途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴涛	武汉工程大学理学院	32	55	5.0	5.0
2	姚拴	武汉工程大学理学院	1	0	0.0	0.0