TFT-LCD曝光工艺参数TP实验研究

• 作者: 张兴强 江俊波 王军才 董小龙
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 整体倾斜度 扭曲程度 曝光 产品布局
• 年，卷（期）: 2017,（10）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 783-786
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1917字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20173210.0783

摘要

从Total Pitch(TP)的理论含义与监控原理出发,通过对相同Device下Pitch量和TP测试Mark的更改,讨论了X方向以及Y方向TP的变化.通过相同Lay out不同产品和相同产品不同Lay out的对比,发现TP并不随着Pitch量的改变而变化,但设备扭曲度(Distortion)影响着TP的变化,由此TP也可称为Distortion在实际生产中的简化监测点,并且得到TP从NG到OK变化的pitch量区间,这也为降低图形在基板上的扭曲程度和优化Mask设计提供了新思路.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董小龙		1	1	1.0	1.0
2	张兴强		1	1	1.0	1.0
3	江俊波		1	1	1.0	1.0
4	王军才		1	1	1.0	1.0