一种高感度深紫外正性化学增幅型抗蚀剂的制备

• 作者: 吴立萍 王倩倩 王力元 王菁 胡凡华
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 光致抗蚀剂 深紫外 化学增幅 聚对羟基苯乙烯 缩醛
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 页码范围: 896-901
• 页数: 6页
• 分类号: O632.4
• 字数: 3690字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7503/cjcu20160804

摘要

聚对羟基苯乙烯和环己基乙烯基醚反应得到缩醛保护的聚合物.该聚合物易溶于常见的有机溶剂, 具有较好的热稳定性, 在248 nm处透明性良好.该聚合物可与聚对羟基苯乙烯-甲基丙烯酸金刚烷基酯及二砜光产酸剂等组成一种三组分正性化学增幅型深紫外光致抗蚀剂, 初步研究了该抗蚀剂的感光成像性能.采用KrF激光(248 nm)曝光, 在较低的后烘温度下, 显影得到分辨率为180 nm的线条图形.显影后的留膜率在99%以上.在光致抗蚀剂体系中引入对羟基苯乙烯-金刚烷基甲基丙烯酸酯共聚物, 可提高光刻胶材料的玻璃化转变温度, 有利于其实际应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王力元	北京师范大学化学学院	22	78	5.0	8.0
2	王菁	北京师范大学化学学院	10	4	1.0	2.0
3	王倩倩	北京师范大学化学学院	2	0	0.0	0.0
4	吴立萍	北京师范大学化学学院	2	0	0.0	0.0
5	胡凡华	北京师范大学化学学院	1	0	0.0	0.0