双离子束溅射中红外SiO2薄膜热稳定性研究

• 作者: 刘华松 季一勤 尚鹏 李凌辉 熊胜明 田东 赵道林
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 红外窗口 离子溅射 热稳定性
• 年，卷（期）: 2017,（8）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 102-108
• 页数: 7页
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/gzxb20174608.0816003

摘要

通过双离子束溅射方法在蓝宝石、硅衬底上制备了单层SiO2薄膜,分析了SiO2薄膜残余应力、表面形貌、微观结构以及光学性能(可见-近红外0.4~1.2 μm和中红外3~5 μm波段)在400 ℃~1 000 ℃温度范围内的演化规律.研究结果表明:在400 ℃附近,SiO2薄膜残余应力存在局部极小值;SiO2薄膜光学性能的演化与膜层表面质量、内部残余应力及微观结构变化密切相关;经1 000 ℃高温处理后,蓝宝石窗口表面SiO2薄膜红外透射性能仍能保持很好的稳定性,且膜层表面没有出现显著的气泡、开裂等损伤形貌.该研究结果可为恶劣环境下光学窗口头罩表面薄膜系统的设计提供指导.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊胜明	中国科学院光电技术研究所	44	353	11.0	16.0
2	李凌辉	中国科学院光电技术研究所	8	57	4.0	7.0
3	刘华松	天津津航技术物理研究所天津市薄膜光学重点实验室	15	65	3.0	7.0
4	季一勤	天津津航技术物理研究所天津市薄膜光学重点实验室	11	60	3.0	7.0
5	赵道林		5	12	2.0	3.0
6	尚鹏	天津津航技术物理研究所天津市薄膜光学重点实验室	2	9	1.0	2.0