双离子束溅射沉积HfO2光学薄膜的研究

• 作者: 张文杰 彭玉峰 王建成 程祖海
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 双离子束溅射沉积 氧化铪薄膜 激光损伤阈值 残余应力
• 年，卷（期）: 2007,（9）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 1543-1546
• 页数: 4页
• 分类号: TN24
• 字数: 2277字
• 语种: 中文

摘要

用双离子束溅射沉积氧化铪光学薄膜,并对此工艺下制备的氧化铪薄膜进行了光学性质、残余应力、结构特性以及激光损伤特性的研究.实验结果表明,用双离子束溅射沉积的氧化铪薄膜不仅结构均匀,膜层致密,无定形结构,而且具有极低的散射和吸收,均匀的非晶结构,杂质缺陷少,激光损伤阈值高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭玉峰	河南师范大学物理与信息工程学院	57	305	8.0	15.0
2	程祖海	华中科技大学光电子科学与工程学院	97	785	14.0	21.0
3	张文杰	玉林师范学院物理与信息科学系	15	28	3.0	5.0
5	王建成		2	19	2.0	2.0